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スパッタリング法(PVD:物理的蒸着法の一種)により、基材にコーティングされたセラミックスSiON(酸窒化ケイ素)膜. ナノ膜コーティング「SixONy シクソニィ」は、真空容器の中でプラズマを発生させ、Siと酸素と窒素を反応させて成膜し. Click to Play!

抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。 架台内にメインポンプ・補助ポンプ・. 槽の開放を行うことが可能です。 蒸発電源・電極の追加により、同時蒸着・多層蒸着(最大4層)が可能です。. 排気時間. 4.0×10-3Pa/10min 3.0×10-3Pa/10min(液体窒素使用時)※1. Click to Play!

液体窒素容器はSUS316L材を使用していますので、熱サイクルでの劣化がありません。 4.冷却面積が大きく、水分除去や有機蒸着装置の排気系に最適です。 仕様, ECT-152 1.取付けフランジ 152ICF 2.液体窒素容器容量 3.5L 3.トラップ寸法 外形φ300. Click to Play!

... に採用され、赤い郵便ポスト型貯金箱のような容姿は多くの研究者に親しまれています。 赤外線検出ディテクター・超伝導素子に代表される極低温素子冷却デュアー瓶; 液体窒素保管用デュアー及びトランスファーライン・バルブ; 真空蒸着~赤外線カメラなどで. Click to Play!

その他関連機器 | 日本エア・リキード|工業分野

真空蒸着/PVD-PACVD. CLIN 軟窒化処理は、様々な表面反応によって、固体の金属合金に、溶融塩に含まれている窒素および炭素の原子を移すことを目的としてい. この拡散層内には、鉄(または合金元素)の原子の間に窒素が固体形状で存在します。
スパッタと真空蒸着による成膜技術☆徹底解説~真空の基礎と真空成膜の極意を例題を解きながら詳解~. スパッタと真空蒸着による成膜は、電子デバイスの製造などで広く使われる汎用技術です。.. 基板にゲッタされる窒素流量の窒素分圧依存性 4.9.
アネルバ製2kW電子ビーム蒸着装置に、LLチェンバーを付けました。. 金の蒸着が可能です。室温から200℃の温度範囲で温調しながら蒸着する事が可能です。. 大気中、あるいは窒素雰囲気で、電気的特性評価が可能です。3kVまでの評価が可能です。

ヒライ商事の脱気ガス充填シーラー (真空充填2回)♪

三菱電機 クッキーの使用について 窒素蒸着

小型真空蒸着装置. VPC-051・VPC-051A・VPC-250F. VTR-060M/ERH. 型 式. VPC-051. VPC-051A. VPC-250F. 到達圧力(Pa) 7.0×10-4. 10-4. 1.5×10-4(液体窒素使用時). 10-5台(液体窒素使用時). メインポンプ(L/sec) 油拡散ポンプ(空冷) 50.
物理蒸着法(PVD)の各種成膜方法 PVDは、真空にした容器の中で薄膜物質を何らかの方法で気化させ、近傍に置いた基板上に. また、雰囲気が活性なので、酸素、窒素、アセチレンなどの反応性ガスを導入すれば、酸化物、窒化物、炭化物などを成膜する.

三菱電機 クッキーの使用について

低コストタイプの小型真空蒸着装置(抵抗加熱式)。 パイプフレームにメインポンプ・. 槽の開放を行うことが可能です。 蒸発電源・電極の追加により、同時蒸着・多層蒸着が可能です。. 排気時間. 4.0×10-3Pa/20min 1.3×10-3Pa/20min(液体窒素使用時).
ガラスチャンバー型蒸着装置. 蒸着法による素子作製装置. 510E. 塗布成膜用グローブボックス. 塗布法による素子作製の窒素雰囲気ボックス. 510W. 測定機器用グローブボックス. 精密測定のための窒素雰囲気ボックス. 510W. 電子スピン共鳴装置. 分析装置.



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